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光纖繞絲單靶磁控濺射鍍...

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-FMSC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/5/9 8:22:20
  • 訪問次數(shù)183
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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
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簡(jiǎn)單介紹: 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍... 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種常見的物**相沉積(PVD)技術(shù),用于制備各種薄膜材料。其工作原理是使用一種叫做磁控濺射的技術(shù),將高純度的金屬或合金靶材濺射生成離子和中性原子,并將它們沉積在基底上形成薄膜。在這種濺射系統(tǒng)中,使用單個(gè)靶材,通常是金屬或合金的圓盤形,通過在靶材上施加高電壓和磁場(chǎng),將靶材表面的粒子加速并噴向基底。由于基底通常是經(jīng)過高溫處理過的,因此濺射的金屬粒子會(huì)快速擴(kuò)散并形成均勻的薄膜。

為了增加濺射速率和膜質(zhì)量,光纖繞絲技術(shù)被引入其中。在光纖繞絲技術(shù)中,將纖維繞在靶材和基底之間,形成一條薄薄的縫隙。通過調(diào)整靶材和基底之間的距離并控制濺射能量,可以更加**地控制沉積在基底上的薄膜的厚度和組成。

單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層。

這種濺射系統(tǒng)非常適合制備高質(zhì)量、高純度、均勻性好的金屬和合金薄膜,廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)、電池、太陽能電池等領(lǐng)域。

1. 光學(xué)薄膜制備:用于制作高反射、抗反射等光學(xué)薄膜。

2. 電子器件制備:用于制備半導(dǎo)體器件、導(dǎo)電膜等。

3. 光學(xué)器件制備:用于制備太陽能電池、液晶顯示器、LED等器件。

4. 防護(hù)涂層制備:用于制備具有防水、防油、防紫外線、防磨損等性能的涂層。

總的來說,單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)領(lǐng)域中的薄膜制備。


單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

繞絲機(jī)構(gòu)

尺寸

Φ15mmx245mm

 

 

 

繞絲速度

1-300r/min

 

 

磁控濺射頭

數(shù)量

2 英寸 x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

Φ213mm X 307mm

觀察窗口

φ80mm

腔體材料

不銹鋼 304

開啟方式

上頂開式、左側(cè)開式

電源配置

直流電源數(shù)量

1 臺(tái)

輸出功率

≤300W

匹配方式

自動(dòng)匹配

 

 

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

供氣系統(tǒng)

類型

手動(dòng)微量調(diào)節(jié)閥

 

 

 

真空系統(tǒng)

前級(jí)泵

雙極旋片泵

抽速

1.1L/s

次級(jí)泵

渦輪分子泵

抽速

60L/s

抽氣口

ISO63

出氣口

KF16

真空計(jì)

復(fù)合真空計(jì)

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kw

 


關(guān)鍵詞:調(diào)節(jié)閥
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