3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀

輸入功率

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

1000 W (包括真空泵和水冷機(jī)組)

如果電壓為110 V,可以在CYKY訂購1500 W變壓器

電源

包括13.5 MHz，100 W帶手動匹配的RF發(fā)生器并連接到濺射頭。

負(fù)載范圍：0 - 80Ω可調(diào)，調(diào)節(jié)范圍：-200j - 200j可調(diào)。

可旋轉(zhuǎn)開關(guān)可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以“在等離子體中”切換（在多層工藝期間不會破壞真空和等離子體）。

使用直流電源，涂膜機(jī)可輕松修改為1“直流濺射源，用于金屬薄膜沉積，可實(shí)現(xiàn)三個直流，一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置 。

磁控濺射頭

包括三個帶水冷套的1“磁控濺射頭，并通過快速夾具插入石英腔。

法蘭上安裝了一個手動操作的擋板。

包括一臺10 L / min數(shù)控循環(huán)冷水機(jī)組，用于冷卻濺射頭。

濺射靶

• 靶尺寸要求：大1’’直徑×1/8’’厚度
• 濺射距離范圍：50-80 mm可調(diào)
• 濺射角度范圍：0-25°可調(diào)
• 包括1’’直徑Cu靶和Al2O3靶用于演示測試
• 可根據(jù)要求提供各種氧化物1“濺射靶，需額外付費(fèi)
• 對于靶的粘合，包括1 mm和2 mm銅背板

真空室

• 真空室：外徑256 mm×238 mm內(nèi)徑×276 mm高度，由高純度石英制成
• 密封法蘭：直徑274 mm。由鋁制成，帶有高溫硅膠O形圈
• 包括不銹鋼屏蔽罩，用于100％屏蔽來自腔室的RF輻射
• *大真空度：1.0E-5 Torr，可選配渦輪泵和腔室烘烤 

樣品架

• 樣品架是一個可旋轉(zhuǎn)且可加熱的平臺，由帶有不銹鋼蓋的陶瓷加熱器制成
• 樣品架尺寸：50 mm直徑2”晶圓max
• 轉(zhuǎn)速：1-10 rpm可調(diào)，均勻涂層
• 支架溫度可在高溫度范圍內(nèi)調(diào)節(jié)至600℃（600℃可達(dá)5分鐘; 500℃可達(dá)2小時），精度為+/- 1.0℃，通過數(shù)字溫度控制器

真空泵

• 內(nèi)置KF40真空端口，用于連接真空泵。
• 真空度：1.0E-2托，附帶雙級機(jī)械泵。
• 1.0E-5托可選配渦輪泵 。

尺寸

540 mm L×540 mm W×1000 mm H

凈重

60 kg

售后服務(wù)

貨物發(fā)出后，CYKY提供一年免費(fèi)售后服務(wù)，服務(wù)方式限于電話指導(dǎo)、視頻指導(dǎo)、郵件指導(dǎo)、配件郵寄等遠(yuǎn)程。如需要派人現(xiàn)場服務(wù)，客戶需要支付服務(wù)人員差旅費(fèi)和出差期間的工資。