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單室磁控濺射鍍膜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-SC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2020/12/31 14:11:45
  • 訪問次數(shù)310
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡單介紹: 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。單室磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
單室磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

單室磁控濺射鍍膜儀設(shè)備用途:

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

單室磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

真空室

圓型真空室,尺寸? 450×50mm

真空系統(tǒng)配置

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、閘板閥

極限壓力

6.67*10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)

恢復(fù)真空時間

40 分鐘可達(dá)到6 .6*10-4 Pa 。(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣)

磁控靶組件

永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內(nèi)水冷;三個靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~110mm可調(diào);當(dāng)直接向上濺射時,靶與樣品距離40~80mm可調(diào)

基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺

基片結(jié)構(gòu)

基片加熱與水冷獨立工作,取下加熱爐可以換上水冷基片臺

樣品尺寸

?30mm

運動方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速 5~10 轉(zhuǎn)/分

加熱

基片加熱*高溫度600±1

基片負(fù)偏壓

200V

氣路系統(tǒng)

質(zhì) 控制器 2

計算機(jī)控制系統(tǒng)

控制樣品轉(zhuǎn)動,擋板開關(guān),靶位確認(rèn)等

可選配件6工位基片加熱公轉(zhuǎn)臺

拆下單基片水冷加熱臺可以換上該轉(zhuǎn)臺。可同時放置630mm的基片;6個工位中,其中一個工位安裝加熱爐,其余工位為自然冷卻基片臺;基片加熱*高溫度600 ±1

設(shè)備占地面積

主機(jī)

I300×800mm2

電控柜

70×700m2

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