磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為300W射頻電源,可用于非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求;儀器標配的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。
單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:
該設備可用于制備單層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:
單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) | ||||
樣品臺 | 尺寸 | φ185mm | 控溫精度 | ±1℃ |
加熱溫度 | *高500℃ | 轉速 | 1-20rpm可調 | |
磁控濺射頭 | 數量 | 2” ×1 (1”,2”,3”可選) | 水冷機規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機 |
冷卻方式 | 水冷 |
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真空腔體 | 腔體尺寸 | φ300mm × 300mm | 觀察窗口 | φ100mm |
腔體材料 | 不銹鋼 | 開啟方式 | 上頂開式 | |
質量流量計 | 2路;量程100SCCM;100SCCM(可根據客戶需要定制多路氣路) | |||
真空系統(tǒng) | 產品型號 | CY-GZK103-A | 抽氣接口 | KF40 |
分子泵 | CY-600 | 排氣接口 | KF16 | |
前極泵 | 旋片泵 | 真空測量 | 復合真空計 | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | 供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵:600L/S 旋片泵:1.1L/S 綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa | |||
電源配置 | 數量 | 射頻電源 ×1 | *大輸出功率 | 300W |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm |
整機功率 | 2KW | 整機重量 | 300kg |