反應離子刻蝕系統(tǒng)

反應離子刻蝕系統(tǒng)

RIE，全稱是Reactive Ion Etching，反應離子刻蝕，是一種微電子干法腐蝕工藝。

RIE是干法蝕刻的一種方式，其原理是當在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radio frequency）時會產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層（ion sheath），在其中放入試樣，離子高速撞擊試樣而完成化學反應蝕刻，此即為RIE（Reactive Ion Etching）。因此為了得到高速而垂直的蝕刻面，經(jīng)加速的多數(shù)離子不能與其他氣體分子等碰撞，而直接向試樣撞擊。為達到此目的，對真空度，氣體流量，離子加速電壓等進行調(diào)整，同時，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。

　　我司提供多種型號的RIE刻蝕系統(tǒng)，滿足國內(nèi)客戶研究和生產(chǎn)的需要。

臺式RIE刻蝕機(Benchtop Reactive Ion Etching System)

深反應離子蝕刻系統(tǒng)(Deep Reactive Ion Etching System)