反應(yīng)離子束刻蝕

廠家：美國(guó)Nanomaster公司
技術(shù)指標(biāo):
  反應(yīng)氣體：O₂, Ar, CF₄，CHF₃，SF₆
 RF功率：600W 
 電極尺寸：240mm
 刻蝕材料：氧化物、半導(dǎo)體、金屬等
 晶片尺寸：6英寸
主要功能及應(yīng)用范圍：
    用于各種材料的離子束反應(yīng)刻蝕，輔助形成微/納結(jié)構(gòu)?？捎糜诟鞣N微納器件與結(jié)構(gòu)的制作，如：微納電子器件，光電子器件，生物傳感器，微納機(jī)電系統(tǒng)，超導(dǎo)電子學(xué)器件，磁電子學(xué)器件等，也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。