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雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶...

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  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-MSP500S-DCRF-B
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/15 11:54:59
  • 訪問(wèn)次數(shù)261
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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開(kāi)發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來(lái),在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問(wèn),他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問(wèn),并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無(wú)人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問(wèn)題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡(jiǎn)單介紹: 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位,直流射頻雙電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜。
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶... 產(chǎn)品信息
詳情介紹:
CY-MSP500S-DCRF-B雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀,設(shè)備配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)采用靶下置布局,樣品臺(tái)在上方,與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào),并且可旋轉(zhuǎn)加熱,性能優(yōu)異。


名稱

雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)
型號(hào)
CY-MSP500S-DCRF-B
特點(diǎn)
1.能量高速度快
2.采用靶下置布局,樣品臺(tái)在上方,
3.基片與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào),并且可旋轉(zhuǎn)加熱
4.采用單靶獨(dú)立、多靶輪流或組合共濺,向心濺射
5.用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系
6.PC+PLC全自動(dòng)控制
技術(shù)參數(shù)
1.  供電電壓 AC220V,50Hz
2.  整機(jī)功率 6KW
3.  極限真空度 5x10-4Pa
4.  載樣臺(tái)參數(shù) 
     尺寸 φ150mm;加熱溫度 *高500℃;控溫精度 ±1℃;高度:上下70mm可調(diào),轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào)
5.  磁控濺射頭參數(shù) 
     數(shù)量 2個(gè)2”磁控濺射頭;冷卻方式  10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
6.  真空腔體 
     尺寸 φ500mm X 490mm H; 材料 不銹鋼; 觀察窗口 φ100mm;上頂開(kāi)式,便于更換靶材
7.  氣體流量控制器 1路200sccm Ar; 
8.  真空泵 配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S
9.  膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?
10. 濺射電源(1DC 1RF)
     直流電源,500W,適用于制備金屬膜
     射頻電源,500W,適用于非金屬鍍膜
11. 操作方式 一體機(jī)電腦操作
規(guī)格
整機(jī)尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
整機(jī)重量 350kg


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