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?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(...

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-MSP500S-DCRF-RE
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/15 11:56:51
  • 訪問次數(shù)245
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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡單介紹: ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì),?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(... 產(chǎn)品信息
詳情介紹:
CY-MSP500S-DCRF-RE往復(fù)樣品臺(tái)型雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀,設(shè)備配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制,內(nèi)置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備


名稱

往復(fù)樣品臺(tái)型雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
型號(hào)
CY-MSP500S-DCRF-RE
特點(diǎn)
1.能量高速度快
2.磁控靶配有水冷夾層避免熱量在靶面聚集
3.樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)
4.采用單靶獨(dú)立、多靶輪流或組合共濺,向心濺射
5.PC+PLC全自動(dòng)控制
技術(shù)參數(shù)
1.  供電電壓 AC220V,50Hz
2.  整機(jī)功率 6KW
3.  極限真空度 5x10-4Pa
4.  載樣臺(tái)參數(shù) 
     尺寸 100*100mm;往復(fù)行程200mm
5.  磁控濺射頭參數(shù) 
     數(shù)量 2個(gè)2”磁控濺射頭;冷卻方式  10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
6.  真空腔體 
     尺寸 φ500mm X 490mm H; 材料 不銹鋼; 觀察窗口 φ100mm;上頂開式,便于更換靶材
7.  氣體流量控制器 1路200sccm Ar; 
8.  真空泵 配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S
9.  膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?
10. 濺射電源(1DC 1RF)
     直流電源,500W,適用于制備金屬膜
     射頻電源,500W,適用于非金屬鍍膜
11. 操作方式 一體機(jī)電腦操作
規(guī)格
整機(jī)尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
整機(jī)重量 350kg



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