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半導體芯片清洗用高純水設備的設計

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質
  • 更新時間2023/2/23 10:43:30
  • 訪問次數(shù)207
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芯片封裝生產(chǎn)工藝流程簡介:芯片:為外購的合格芯片
半導體芯片清洗用高純水設備的設計 產(chǎn)品信息
芯片封裝生產(chǎn)工藝流程簡介:
   
  1. 芯片:為外購的合格芯片。
  2. 磨劃片:首先將藍膜貼在芯片的正面,目的是保護圓片正面的芯片防止擦傷、沾污等。接著利用全自動磨片機對芯片的背面進行研磨處理,使芯片厚度達到要求。磨片后將藍膜揭除。然后在芯片的背面貼一層藍膜,目的是將芯片固定從而可以進行劃片,并在劃片后分成每顆芯片時不會脫落,以便于下道裝片工序。接著利用全自動劃片機將晶片分離成單個芯片。在磨劃片過程中會產(chǎn)生熱量,因此需要用純水進行冷卻,同時在磨劃時芯片表面會產(chǎn)生細小微粒,需要用高純水設備產(chǎn)生高純水進行清洗。
   
   
   
電子級高純水設備工藝流程:
   
   
   
   
電子級高純水設備工藝介紹:
   
原水→原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑加藥系統(tǒng)/還原劑加藥系統(tǒng)→保安過濾器→中間水箱→高壓泵1→反滲透裝置1→中間水箱→PH調(diào)節(jié)裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→精密過濾器→EDI電除鹽系統(tǒng)→EDI高純水箱→輸送泵→拋光混床→TOC去除器→精密過濾器用水點
   
注:本系統(tǒng)采用反滲透+EDI處理工藝,主要有四個部分組成,預處理系統(tǒng)、二級反滲透主機系統(tǒng)、EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光混床系統(tǒng);
   
   
   
   
   
   
原水采用自來水通過增壓泵增壓進入石英砂過濾器、活性炭過濾器,去除水中的懸浮物、膠體、有機物及余氯,配套有絮凝劑加藥系統(tǒng)和阻垢劑加藥系統(tǒng),可有效降低水中渾濁度,防止反滲透膜的結垢,提高反滲透膜的使用壽命;
   
二級反滲透系統(tǒng)采用美國陶氏反滲透膜技術,自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。一級反滲透采用BW30-400型號的反滲透膜,該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小,抗污染性能,膜的脫鹽率可以達到99.7%;二級反滲透膜采用BW30-365系列膜,該膜廣泛使用二級反滲透系統(tǒng)中。二級反滲透出水水質電導率可以達到4微西門子以下;
   
EDI電除鹽系統(tǒng)采用西門子模塊,EDI作為綠色脫鹽模式,具有以下優(yōu)點:占地面積省、運行成本低、系統(tǒng)設計簡單、水質穩(wěn)定、安裝維修簡便、綠色環(huán)保,不需要酸堿再生、可實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐;
   
拋光混床系統(tǒng)采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂,拋光混床作為制取超純水的核心部件,經(jīng)處理后出水可以達到18兆歐以上,滿足微電子行業(yè)用水要求;
   
   
   
   
   
   
技術參數(shù)總表(以15t/h高純水設備為例)
   
   

項目型號

 CL-15T/H型高純水設備

應用行業(yè)

微電子沖洗用水

設備控制方式

觸摸屏 PLC控制,各液位、壓力連鎖控制,實現(xiàn)無人值守

產(chǎn)水量

15T/H

進水水質指標

市政自來水 ,電導率≤1000μS/cm

產(chǎn)水水質

電導率≤0.055μS/cm(電阻率≥18MΩ.CM

反滲透設備系統(tǒng)脫鹽率

99.7%

自來水損耗

26t/h

進水溫度

2~35℃

工作方式

24小時運行

設備運行質量

預處理部分約30

二級反滲透主機系統(tǒng)約5

EDI電除鹽和拋光混床:約4

設備額定功率

約55KW

電源

380V  AC  50HZ  三相五線

反滲透系統(tǒng)回收率

50~75%

主機設備規(guī)格尺寸

長6000*寬2500*2000

廠房建議尺寸(含操作維護空間)

19000*8000*7000

進水口徑

DN100 PN1.0法蘭接口

出水口徑

DN65 PN1.0法蘭接口

排污口徑

DN150 PN1.0法蘭接口

 
 
 
 
 
 
 
 


 

 

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