使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡(jiǎn)單”的臺(tái)式 高性能型號(hào),調(diào)取數(shù)據(jù)簡(jiǎn)單,以電子材料為中心,可對(duì)應(yīng) 多種用途。
特征
● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器,高性能RF 電源。
● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機(jī)物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
內(nèi)槽
規(guī)格
型號(hào) | V1000 | V1000X | V1000XS |
等離子模式 | DP/RIE | ||
高頻電源 | 13.56MHz | ||
輸出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
有效電極尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
電極 | 平行平板 | 2段電極(獨(dú)立) | 平板(多目的) |
反應(yīng)氣體 | 聚合控制器2系統(tǒng)(填充氣路另行安裝) | ||
真空泵(標(biāo)配) | 約1000L/min | 約1500L/min | 1000 & 1500L/min |
安全裝置 | 門檢測(cè)開關(guān)、聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)、緊急停止開關(guān)、溫度過(guò)升防止器等 |
管路連接圖