直線式勞埃透鏡鍍制機,是為高能同步輻射光源(HEPS)研發(fā)的儀器裝備,用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數(shù)多(數(shù)千層甚至更多)且膜層位置和厚度精度高(總位置平均誤差小于±5nm,每層的厚度誤差小于0.1nm)。為了保證每個膜層的厚度精度,采用磁控濺射技術(shù)來實現(xiàn)膜片的制備,其優(yōu)點是,能夠精確控制膜層厚度,重復(fù)性好,薄膜與基片結(jié)合緊密,薄膜純度高、致密性好。
性能參數(shù):
進樣室
本底極限真空度<8×10-5Pa
腔室漏率<1×10-7Pa.L/s
基板加熱溫度≥500℃
沉積室
極限真空度:<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s
靶位個數(shù)≥9個
靶與樣品間距離60~100mm手動可調(diào)
單個電源可切換的靶位個數(shù)≥4個
基板加熱溫度≥200℃
運動系統(tǒng)速率穩(wěn)定性≤0.1% /300mm
運動系統(tǒng)直線度≤30μm/300mm
檢測室
極限真空度:<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s