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通用磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京中科科美科技股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/5/30 11:03:43
  • 訪問次數(shù)121
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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北京中科科美科技股份有限公司是直屬企業(yè)北京中科科儀股份有限公司的控股子公司,是專門從事真空系統(tǒng)集成產(chǎn)品設(shè)計、制造、銷售和服務(wù)的國家企業(yè),為客戶提供真空系統(tǒng)整體解決方案和一站式服務(wù),包括真空集成系統(tǒng)的總體設(shè)計、工程實施、設(shè)備安裝、技術(shù)服務(wù)等。公司主營業(yè)務(wù)分為空間環(huán)境模擬裝置、充氣回收檢漏系統(tǒng)、新能源真空應(yīng)用系統(tǒng)和大科學(xué)工程真空配套四大類別。公司的客戶行業(yè)涉及航空航天、新能源(太陽能和核能)、新興裝備制造、科研院所、大科學(xué)工程、工業(yè)鍍膜、汽車制造、電子、低溫、超導(dǎo)、電氣檢測等多個領(lǐng)域。公司擁有的裝備制造實力,通過了ISO質(zhì)量管理體系和中核供應(yīng)商體系認(rèn)證,擁有3項發(fā)明及三十余項實用新型,曾參與:神光Ⅲ、北京高能同步輻射光源、特高壓蘇通GIL綜合管廊工程、江門中微子探測等國家大科學(xué)工程項目的實施,在真空領(lǐng)域具有的技術(shù)實力。中科科美致力于發(fā)展成為、具有國際競爭力的真空系統(tǒng)集成整體解決方案供應(yīng)商,實現(xiàn)與客戶的共同成長!
檢漏設(shè)備
磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備,可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實驗室制備光學(xué)膜層,電學(xué),光電膜層及其它功能膜層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校及相關(guān)科研機(jī)構(gòu)。
通用磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

  一、應(yīng)用領(lǐng)域

  磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備,可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實驗室制備光學(xué)膜層,電學(xué),光電膜層及其它功能膜層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校及相關(guān)科研機(jī)構(gòu)。

  二、性能參數(shù):

  1. 極限真空壓力:5×10-5Pa;

  2. 磁控靶:直徑Φ50-Φ150;數(shù)量:2-4只;

  3. 靶單位面積功率:(W/cm2)5~20;

  4. 靶電源功率(W):DC500-5000W,RF500-1000W;

  5. 基片加熱溫度:0~500℃可控;

  6. 恢復(fù)真空抽氣時間(分):從大氣至5×10-4Pa<30min;

  7. 工藝氣體:MFC 1-4路;

  8. 樣品架:公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn);

  9. 其它配置:偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、磁控靶電(氣)動擋板可選;

關(guān)鍵詞:催化劑
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