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HMK-CD4納米激光粒度儀

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HMK-CD4納米激光粒度儀

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HMK-CD4納米激光粒度儀

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應(yīng)用領(lǐng)域
化工、電子材料、農(nóng)藥、顏料、醫(yī)藥、鈦白粉、陶瓷、建材、化妝品、磨料、涂料、食品、碳酸鈣、、高嶺土、造紙、氧化鋁、稀土、催化劑、發(fā)泡劑、耐火材料、水泥、石墨等各種行業(yè)干粉、乳液的粒度測(cè)試。

技術(shù)參數(shù)

儀器原理 符合ISO13321 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),激光光子相關(guān)光譜法原理,采用智能自相關(guān)器,自動(dòng)選擇測(cè)試的參數(shù)。計(jì)算功能強(qiáng)大,可測(cè)試單分散和多分散樣品。
測(cè)量范圍 1nm~10000nm
分析軟件 在兼容WindowsXP系統(tǒng),菜單提示完整,測(cè)試報(bào)告數(shù)據(jù)齊全,結(jié)果有積分、微分分布、平均粒徑和表面積等數(shù)據(jù),中、英文版本供選擇使用。
信號(hào)光源 采用波長(zhǎng)650nm大功率半導(dǎo)體激光器。
測(cè)試精度 平均粒徑測(cè)試重復(fù)性誤差≤5%;溫度測(cè)試精度0.01度。
測(cè)試時(shí)間 2-5分鐘,也可在10~180秒內(nèi)任選,可單次、多次和在線連續(xù)測(cè)試。
測(cè)試結(jié)果 108級(jí)粒級(jí)的表格和曲線表示。顯示粒度分布、平均粒徑、體積分布、數(shù)量分布兩種模式等數(shù)據(jù)。

提供累積分布、頻度分布、累積10%、50%、90%、97%、平均粒徑和比表面積等數(shù)據(jù),全面表征樣品的粒度特征。

測(cè)試結(jié)果可以直接打印,或轉(zhuǎn)換為圖像文件和文本文件等格式。

儀器特點(diǎn) 1、采用薄縫樣品池,提高采集信號(hào)的信噪比。

2、的多分散分析算法,可以快速分析出多分散和單分散顆粒體系。

3、直接對(duì)樣品溫度實(shí)時(shí)測(cè)試,避免了樣品池和恒溫系統(tǒng)溫度梯度引起的測(cè)量誤差。

工作電源 AC220V±10% 50Hz
儀器外形尺寸 長(zhǎng)600mm 寬380mm 高300mm

 

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