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HMK-CD1干濕兩用激光粒度儀

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更新時(shí)間:2024-01-06 08:47:52瀏覽次數(shù):144

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產(chǎn)品簡介

HMK-CD1干濕兩用激光粒度儀

詳細(xì)介紹

HMK-CD1干濕兩用激光粒度儀

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產(chǎn)品簡介
HMK-CD1型干濕兩用激光粒度儀是一種集干法測(cè)試和濕法測(cè)試于一體的新型的激光粒度儀,測(cè)試速度快、操作簡單、重復(fù)性好。濕法進(jìn)樣系統(tǒng)包括超聲波分散、樣品池、循環(huán)管路等。干法進(jìn)樣系統(tǒng)包括空壓機(jī)、空氣過濾分離凈化器、抽塵系統(tǒng)、儲(chǔ)塵罐等。干法測(cè)試和濕法測(cè)試只一鍵就可方便轉(zhuǎn)換,適用范圍廣泛,滿足了不同行業(yè)的需求。

應(yīng)用領(lǐng)域
鐵氧體、釹鐵硼、硬磁粉、軟磁粉、鈷粉、電子材料、農(nóng)藥、顏料、醫(yī)藥、陶瓷、化妝品、涂料、食品、碳酸鈣、、高嶺土、造紙、氧化鋁、稀土、催化劑、發(fā)泡劑、耐火材料、水泥、石墨等各種行業(yè)干粉料及乳液料的粒度分布測(cè)試。

技術(shù)參數(shù)

測(cè)試原理:全量程米氏、散射理論及專有技術(shù)計(jì)算,符合ISO 13320國際標(biāo)準(zhǔn)原理,校對(duì)采用國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。

測(cè)試范圍:0.02μm~2000μm

信號(hào)光源:波長0.6328μm,激光器為主光源,使用壽命長,穩(wěn)定性好,一般在10年以上。另有紫光源為輔助探測(cè)光源()。

探測(cè)器:80級(jí)專用主探測(cè)器,呈前、后、側(cè)三維排列()檢測(cè)角度165度。

測(cè)量精度:50%體積累積粒徑值重復(fù)性、穩(wěn)定性誤差≤±3%(標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì))。

分散介質(zhì):干法:壓縮氣體 濕法:水或其他液體。

結(jié)果顯示:D10、D25、D50、D75、D90、D97、體積平均粒徑等數(shù)據(jù),粒度分布particle size analyzer price表,粒度分布曲線。

操作方法:

1、干法測(cè)試:將樣品放進(jìn)干法樣品槽,點(diǎn)擊菜單“干法測(cè)試",自動(dòng)開啟/關(guān)閉氣源,自動(dòng)測(cè)試、儲(chǔ)存樣品,整個(gè)測(cè)試在電腦控制下2分鐘內(nèi)完成。

2、濕法測(cè)試:點(diǎn)擊菜單“濕法測(cè)試",樣品池內(nèi)自動(dòng)進(jìn)水,當(dāng)提示“加粉測(cè)試",將約1g左右粉體放進(jìn)樣品池,分散、攪拌、循環(huán)、清洗整個(gè)測(cè)試過程在電腦控制下2分鐘內(nèi)完成。

儀器主體:長860mm 寬460mm 高520mm 輔機(jī):長660mm 寬320mm 高900mm

工作電源:AC220V±10% 功率:500W

環(huán)境要求:使用環(huán)境應(yīng)清潔,溫度:0-40℃

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 集干法、濕法測(cè)試2種功能,既能檢測(cè)不能用水分散的釹鐵硼等類磁性材料、藥粉、水泥等,同時(shí)又能檢測(cè)各種干粉、乳液漿料等。
  • 測(cè)試干法或濕法,不需更換任何部件,電腦控制下直接一鍵轉(zhuǎn)換完成。
  • 儀器分主機(jī)、輔機(jī)、無油空壓機(jī)3大件,結(jié)構(gòu)緊湊合理。輔機(jī)是干法測(cè)試的附件,內(nèi)含過濾分離凈化器、抽塵系統(tǒng)、儲(chǔ)塵罐。
  • 濕法測(cè)試的循環(huán)系統(tǒng)、超聲波分散、樣品池均設(shè)置于主機(jī)內(nèi)部,全密封抗力強(qiáng),有效的防止粉塵污染,測(cè)試前在電腦控制下自動(dòng)對(duì)中校零。
  • 只需按動(dòng)控制開關(guān),每測(cè)一個(gè)樣可以連續(xù)測(cè)試,2分鐘內(nèi)全自動(dòng)完成。

 

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