詳細(xì)介紹
◆ 高性能電子光學(xué)系統(tǒng)
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)*
高靈敏度: 高效PD-BSD, 的低加速電壓性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析
◆ 性能優(yōu)異
壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)*
開(kāi)倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣(樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
*:選配附件
*1:減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器)
*2:低真空功能(包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器)
*3:空壓機(jī)(本地采購(gòu))
樣品: 氧化鋅粉末
著陸電壓: 1 kV ; 倍率: 120,000x
低電壓下頂位二次電子探測(cè)器成像樣品: 氧化鋅粉末
著陸電壓: 1 kV ; 倍率: 120,000x
低電壓下頂位二次電子探測(cè)器成像
樣品: PTFE
加速電壓: 3 kV ; 倍率: 13,000x
UVD探測(cè)器可在低加速電壓(3 kV)和低真空
(40 Pa) 下獲得高質(zhì)量圖像