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HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設備

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更新時間：2024-10-17 08:44:11瀏覽次數(shù)：13次

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東莞愛加真空科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設備高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）野馬真空系統(tǒng)（MVS）有在產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室，包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強部件的耐磨性和性能的結構的硬盤，摩擦學涂料生產(chǎn)的重要經(jīng)驗

詳細介紹

HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設備

高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）

野馬真空系統(tǒng)（MVS）有在產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室，包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強部件的耐磨性和性能的結構的硬盤，摩擦學涂料生產(chǎn)的重要經(jīng)驗。

在2005年和2007年，MVS是在北美的個商業(yè)組織接受和使用電源（Chemfilt / SINEX的Huettinger）工業(yè)HIPIMS濺射應用。自該日起顯著的進步和研發(fā)，導致其日常規(guī)范中的各種金屬和陶瓷的商業(yè)涂料應用。

該技術適用于非常高的功率密度的脈沖（> 1000Wcm ^-2，可選擇的脈沖持續(xù)時間50-200μS和100-500Hz的頻率）的磁控管陰極產(chǎn)生異常高的等離子密度為10 ¹⁹米^-3或更大的順序。這種脈沖的功率密度可以顯著更高水平電離（最多約80％）比通常出現(xiàn)在常規(guī)的磁控濺射工藝（約1-2％）釋放的靶表面的金屬物種。

樓盤，等Helmersson固體薄膜，513，1-2，2006，1-24。

這些特性可以被用于產(chǎn)生顯著的變化，膜的密度和優(yōu)選的生長方向/方位。 HIPIMS薄膜表現(xiàn)出非常光滑的表面，而不創(chuàng)造過量輻射采暖或宏觀粒子摻入通常使用時如發(fā)現(xiàn)電弧蒸發(fā)源。這導致致密，粘附膜，即使在非常低的襯底溫度是從宏觀生長缺陷。

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