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薄膜

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更新時(shí)間：2024-10-17 08:49:31瀏覽次數(shù)：10次

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東莞愛加真空科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

薄膜的電影架構(gòu)-多層膜，納米層，納米復(fù)合材料野馬真空系統(tǒng)（MVS）具有顯著的經(jīng)驗(yàn)，在開發(fā)和制造的產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室下一代摩擦膜系統(tǒng)，使厚的多層，精細(xì)的納米層或納米復(fù)合結(jié)構(gòu)

詳細(xì)介紹

薄膜

的電影架構(gòu) - 多層膜，納米層，納米復(fù)合材料

野馬真空系統(tǒng)（MVS）具有顯著的經(jīng)驗(yàn)，在開發(fā)和制造的產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室下一代摩擦膜系統(tǒng)，使厚的多層，精細(xì)的納米層或納米復(fù)合結(jié)構(gòu)。

CSM儀器編號(hào)：N.Randall 多諾霍等（1995）魯?shù)热耍?005年）

MVS已策略性地開發(fā)了一個(gè)靈活的沉積范圍個(gè)別層通常為微米厚（訂購）濺射多層涂層使用，HIPIMS或轉(zhuǎn)向電弧蒸發(fā)技術(shù)，適用范圍廣，要求苛刻的應(yīng)用，包括侵蝕/耐磨性和增強(qiáng)高速銑削過程能力切削加工。例子包括金屬/金屬氮化物沉積或金屬氮化物/金屬氮化物和硬涂層+低摩擦面涂架構(gòu)實(shí)現(xiàn)順序要利用適當(dāng)?shù)某练e源切換期間適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體流量的控??制開關(guān)來實(shí)現(xiàn)的架構(gòu)。

最近通過精確控制在反應(yīng)濺射和蒸發(fā)沉積速率從不同的源材料，精確控制基板的旋轉(zhuǎn)頻率和源材料的反應(yīng)行為的理解，MVS已另外開發(fā)能力，以一系列精美的共沉積，納米分層（典型的重復(fù)周期2-10nm的）結(jié)構(gòu)薄膜，在產(chǎn)業(yè)規(guī)模和傳統(tǒng)工藝相比，沒有生產(chǎn)力的損失。量身定制，并顯著提高機(jī)械（硬度，韌性等），熱和摩擦學(xué)性能比傳統(tǒng)的單片結(jié)構(gòu)薄膜，這些薄膜可以表現(xiàn)。

MVS摩擦學(xué)系統(tǒng)也可以被配置為提供，通過以往的過渡金屬基陶瓷的硬質(zhì)材料，而與適當(dāng)?shù)墓矁r(jià)鍵，例如Si ₃ N ₄或BN氮化物物種的共沉積，制造能力的納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的硬質(zhì)涂層的反應(yīng)沉積。

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