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更新時間:2021-10-06 18:52:02瀏覽次數(shù):246次
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Hakuto 全自動離子蝕刻機(jī) MEL3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 刻蝕均勻度: 5%, 硅片 Si 蝕刻速率 10 nm/min, 具有高冷卻效果.所有流程全自動減少人工操作, 從而保證了產(chǎn)品的無差錯、高穩(wěn)定性和高質(zhì)量.占用空間小, 容易維護(hù)和用戶操作友好.
1. 所有流程全自動減少人工操作, 從而保證了產(chǎn)品的無差錯、高穩(wěn)定性和高質(zhì)量
2. 盒式房間采用高效微粒過濾器
3. 采用高質(zhì)量的蝕刻考夫曼離子源, 保證良好的均勻性和高蝕刻率
4. 占用空間小
5. 傳輸系統(tǒng)采用了 SCARA 型機(jī)器人
6. 控制單元系統(tǒng)提供操作通過觸摸屏/ 10.4英寸, 數(shù)據(jù)記錄可以顯示在屏幕上
7. 高冷卻效果
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10. 關(guān)鍵部件服務(wù)伯東的經(jīng)銷商是系統(tǒng)中的關(guān)鍵部件渦輪泵系統(tǒng)、離子源提供客戶快速響應(yīng)時間和本地服務(wù)能力,減少停機(jī)時間的工具
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