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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀

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  • 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀

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  • 型號(hào) CY-3RF
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  • 廠商性質(zhì) 其他
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更新時(shí)間:2020-12-31 13:48:08瀏覽次數(shù):214

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹: 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng),設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層,主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜機(jī)??筛鶕?jù)金屬薄膜沉積要求選擇直流磁控濺射,可配置3個(gè)直流、1個(gè)射頻/ 2個(gè)直流和2個(gè)射頻/ 1個(gè)直流濺射頭。

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域:

這款緊湊型3靶磁控濺射鍍膜機(jī)專為在氧化物單晶基板上涂覆氧化物薄膜而設(shè)計(jì),通常不需要高真空設(shè)置。

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格:

輸入功率

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

1000 W (包括真空泵和水冷機(jī)組)

如果電壓為110 V,可以在CYKY訂購(gòu)1500 W變壓器

電源

包括13.5 MHz,100 W帶手動(dòng)匹配的RF發(fā)生器并連接到濺射頭。

負(fù)載范圍:0 - 80Ω可調(diào),調(diào)節(jié)范圍:-200j - 200j可調(diào)。

可旋轉(zhuǎn)開(kāi)關(guān)可一次激活一個(gè)濺射頭。濺射頭可以在等離子體中"切換(在多層工藝期間不會(huì)破壞真空和等離子體)。

使用直流電源,涂膜機(jī)可輕松修改為1“直流濺射源,用于金屬薄膜沉積,可實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流,一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置 。

磁控濺射頭

包括三個(gè)帶水冷套的1“磁控濺射頭,并通過(guò)快速夾具插入石英腔。

法蘭上安裝了一個(gè)手動(dòng)操作的擋板。

包括一臺(tái)10 L / min數(shù)控循環(huán)冷水機(jī)組,用于冷卻濺射頭。

濺射靶

  • 靶尺寸要求:大1’’直徑×1/8’’厚度
  • 濺射距離范圍:50-80 mm可調(diào)
  • 濺射角度范圍:0-25°可調(diào)
  • 包括1’’直徑Cu靶和Al2O3靶用于演示測(cè)試
  • 可根據(jù)要求提供各種氧化物1“濺射靶,需額外付費(fèi)
  • 對(duì)于靶的粘合,包括1 mm2 mm銅背板

真空室

  • 真空室:外徑256 mm×238 mm內(nèi)徑×276 mm高度,由高純度石英制成
  • 密封法蘭:直徑274 mm。由鋁制成,帶有高溫硅膠O形圈
  • 包括不銹鋼屏蔽罩,用于100%屏蔽來(lái)自腔室的RF輻射
  • *大真空度:1.0E-5 Torr,可選配渦輪泵和腔室烘烤 

樣品架

  • 樣品架是一個(gè)可旋轉(zhuǎn)且可加熱的平臺(tái),由帶有不銹鋼蓋的陶瓷加熱器制成
  • 樣品架尺寸:50 mm直徑2"晶圓max
  • 轉(zhuǎn)速:1-10 rpm可調(diào),均勻涂層
  • 支架溫度可在高溫度范圍內(nèi)調(diào)節(jié)至600600可達(dá)5分鐘; 500可達(dá)2小時(shí)),精度為+/- 1.0,通過(guò)數(shù)字溫度控制器

真空泵

  • 內(nèi)置KF40真空端口,用于連接真空泵。
  • 真空度:1.0E-2托,附帶雙級(jí)機(jī)械泵。
  • 1.0E-5托可選配渦輪泵 

尺寸

540 mm L×540 mm W×1000 mm H

凈重

60 kg

售后服務(wù)

貨物發(fā)出后,CYKY提供一年免費(fèi)售后服務(wù),服務(wù)方式限于電話指導(dǎo)、視頻指導(dǎo)、郵件指導(dǎo)、配件郵寄等遠(yuǎn)程。如需要派人現(xiàn)場(chǎng)服務(wù),客戶需要支付服務(wù)人員差旅費(fèi)和出差期間的工資。

免責(zé)聲明:

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