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本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
CY-MSP180G-AR（adjustable Angel rotate） 傾斜樣品臺式單靶磁控 樣品臺 尺寸 φ60mm 轉速 轉速0-20rpm可調 磁控濺射靶 數(shù)量 2" x1 真空腔體 腔體尺寸 φ180mm X 150mm 觀察窗口 全向可視 腔體材料 高純石英 開啟方式 頂蓋拆卸式 下法蘭 含有樣品臺傾斜機構及旋轉機構 真空系統(tǒng) 機械泵 雙級旋片泵 抽氣接口 KF16 分子泵 渦輪分子泵 抽氣接口 KF40 真空測量 電阻規(guī)+電離規(guī) 排氣接口 KF40 極限真空 1.0E-3Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 前級泵 1.1L/s 分子泵：60L/S 電源配置 數(shù)量 直流電源 x1 *大輸出功率 直流電源300W 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機尺寸 500mm X 320mm X6200mm 整機功率 2kW 傾斜樣品臺式單靶磁控技術參數(shù)：
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