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詳細(xì)介紹
詳情介紹：
雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購(gòu)；所配電源為兩個(gè)500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購(gòu)。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制，可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 雙靶磁控濺射儀 |
| 濺射電源 | 安裝有兩個(gè)電源 直流（DC）電源：500W |
| 真空腔體 | 真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作 觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開(kāi)方式采用上頂開(kāi)，使得換靶更加容易 |
| 磁控濺射頭 | 儀器中安裝有 2 個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水 對(duì)靶材降溫 兩個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材 |
| 載樣臺(tái) | 載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)） 載樣臺(tái)*高可加熱溫度為 500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C |
| 氣體流量控制器 | 儀器內(nèi)部安裝有 2 個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為：0-200sccm |
| 真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S |
| 水冷系統(tǒng) | 16L/min. |
| 電壓 | 220V 50HZ |
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