概述:
這款配置的低真空CVD系統(tǒng)集1200℃真空管式爐,3通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)
(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預(yù)抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量控制
器和浮子流量控制器)。真空泵、閥均采用進(jìn)口設(shè)備,性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù),具有控溫
精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點(diǎn)。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷
基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。
主要技術(shù)參數(shù):
1200雙溫區(qū)加熱爐 | 電壓 | AC220V 50/60Hz |
功率 | 4.5KW雙溫控 | |
加熱區(qū)長 | 220mm,恒溫區(qū)長度:100mm | |
溫度 | 1150℃ | |
工作溫度 | ≤1100℃ | |
升溫速率: | ≤15℃/min | |
溫控系統(tǒng) | PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率, 30段可編程控制器 | |
恒溫精度 | ±1℃ | |
石英管 | φ 25/50/60/80*1400mm | |
三路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
| 電壓 | 185~245V/50Hz |
輸出功率: | 18W | |
流量計(jì)標(biāo)準(zhǔn)量程: | 50,100 ,200,500SCCM;(非特殊以氮?dú)鈽?biāo)定,量程可選定) | |
工作溫度: | 5~45 oC | |
工作壓差: | 0.1~0.5 MPa | |
壓力: | 3Mpa | |
準(zhǔn)確度: | ±1.5% FS | |
低真空系統(tǒng)
| 1.采用雙極旋片真空泵,真空度可達(dá)5×10-1 Torr不銹鋼充油真空壓力表,良好的抗震性 2.安裝過濾器 | |
內(nèi)置測溫系統(tǒng) | 測溫元件可從加熱區(qū)邊緣延伸至溫區(qū)中心法蘭密封,保證爐管的密封性測溫元件: N型熱電偶 | |
法蘭及支撐 | 304不銹鋼快速水冷法蘭,長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷可調(diào)節(jié)的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐 包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合,4個密封硅膠圈等 | |
可選配件 | 混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng),各種剛玉坩堝,石英管,計(jì)算機(jī)控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環(huán)機(jī)等。 |