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微型PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-S-PECVD

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱重慶開衡科技有限公司
品牌
型號
所在地重慶市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2024/7/23 12:10:21
訪問次數(shù)111

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重慶開衡科技有限公司成立于2011年，是由一批有著高等學(xué)歷、優(yōu)良品質(zhì)、豐富經(jīng)驗的專業(yè)人士組建的一家客戶驅(qū)動型企業(yè)。公司自成立以來，不斷拓寬資源渠道，完善產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，積累專家智庫，提高本地化服務(wù)水平。致力打造科學(xué)研究、分析檢測相關(guān)實驗室設(shè)備和消耗品“一站式”采購平臺，幫助客戶建設(shè)一個完備可靠的實驗室。一個渠道，無限解決方案。開衡科技提供所有實驗室儀器和設(shè)備的支持和供應(yīng)管理，不限生產(chǎn)廠家，憑借我們專業(yè)技術(shù)和服務(wù)能力，幫助客戶用更少資源和更低成本提高生產(chǎn)力。我們的產(chǎn)品包括：天平、箱類控溫系統(tǒng)、離心機、加壓電泳液相色譜、離子色譜、水質(zhì)檢測儀器、樣品低溫存儲設(shè)備、細胞培養(yǎng)設(shè)備、樣品離心及濃縮處理系統(tǒng)、微孔板分析儀器、實驗室純水、恒溫產(chǎn)品、質(zhì)量控制檢測設(shè)備、自動化設(shè)備、移液器，以及實驗室塑料制品和玻璃器皿、色譜柱、訂制實驗室家具等等。開衡科技以豐富的選擇，便捷的網(wǎng)絡(luò)，迅速有效的售后服務(wù)，為重慶地區(qū)各大專院校、科研院所、工業(yè)單位，涉及制藥、環(huán)監(jiān)、食品、農(nóng)業(yè)、醫(yī)學(xué)、化工、石化、材料、電子等行業(yè)的科技工作者提供服務(wù)和支持。多年實干，公司在用戶中已贏得廣泛贊譽，并成為重慶地區(qū)科學(xué)儀器行業(yè)內(nèi)受尊敬的供應(yīng)商之一。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

PECVD系統(tǒng)（PlasmaEnhancedChemicalvaporDeposition）微型PECVD系統(tǒng)，它包括小型真空管式爐，石英真空室、真空抽氣與真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、物料噴射系統(tǒng)

微型PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-S-PECVD 產(chǎn)品信息

PECVD 系統(tǒng)（Plasma Enhanced Chemical vapor Deposition）

微型PECVD系統(tǒng)，它包括小型真空管式爐，石英真空室、真空抽氣與真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、物料噴射系統(tǒng)。電源范圍寬：0-100W可調(diào)；溫度范圍寬：100-1200度可調(diào)；濺射區(qū)域?qū)挘?-600mm可調(diào)；適用范圍寬:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，連續(xù)生長各種薄膜等。增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能。

主要特點

1. 薄膜沉積速率高：采用了甚高頻技術(shù)，大大的提高了薄膜的沉積速率，沉積速率可達10?/S；
2. 大面積均勻性高：采用了的多點射頻饋入技術(shù)，特殊氣路分布和加熱技術(shù)等，使得薄膜均勻性指標(biāo)達到8%；
3. 一致性高：用半導(dǎo)體行業(yè)的設(shè)計理念，使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%；
4. 工藝穩(wěn)定性高：高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定；

5. 選配物料噴射系統(tǒng)，可將原料直接噴射到反應(yīng)區(qū)。

6.號：ZL.0 （產(chǎn)品，防偽必究）。

技術(shù)參數(shù)

真空管式爐	爐管尺寸：	外徑Φ50×700mm
	極限溫度：	1200℃
	溫度控制器：	PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率，30段可編程控制器
	Z快升降溫速率：	60℃
	加熱區(qū)：	230mm
	恒溫區(qū)：	100mm
	溫度精度：	±1℃
	電源：	單相220V,交流50Hz
多通道流量計控制系統(tǒng)	標(biāo)準(zhǔn)量程：	100，200SCCM；（以氮氣標(biāo)定，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選）
	準(zhǔn)確度：	±1.5%
	工作壓差范圍：	0.1～0.5 MPa
	Z大壓力：	3MPa
	接頭類型：	Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)	泵體積流量N₂：	33 L/S
	壓縮比：	≥10¹¹mbar
	實驗真空值：	≤10^-6mbar
	功率消耗：	140W
	啟動時間：	2min
	電源要求：	185-265V AC
射頻電源	信號頻率：	13.56MHz±0.005%W
	功率輸出范圍：	0-100W
	Z大反射功率：	10W