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OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module 詳細(xì)摘要: OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module,納米壓印模塊(特色NIL技術(shù)),是一種模塊化附件,可用于任何光刻機。 這種創(chuàng)新技術(shù)是由Hewlett...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI AML 晶元綁定機晶圓接合器 詳細(xì)摘要: OAI AML 晶元綁定機晶圓接合器,促進(jìn)在高真空室中原位進(jìn)行對準(zhǔn)和接合。AML晶片接合器非常適合陽極接合,硅直接和熱壓接合應(yīng)用。 這些特性使焊接機能夠與幾乎任...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI UV 紫外光源 詳細(xì)摘要: OAI UV 紫外光源,是大面積準(zhǔn)直光源。 該器件的輸出功率高達(dá)10KW。 利用準(zhǔn)直鏡,UV光源重型是一種高效的紫外光源,適用于各種大規(guī)模應(yīng)用。
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI 6000 FSA 全自動上側(cè)或后側(cè)光刻機 詳細(xì)摘要: OAI 6000 FSA 全自動上側(cè)或后側(cè)光刻機,用于生產(chǎn)的全自動,上側(cè)或后側(cè)光刻機
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI 5000E 光刻機 詳細(xì)摘要: OAI 5000E 光刻機, OAI 5000E型大面積掩光刻機是一種*的高性能,全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具,可為大型平板應(yīng)用提供超精密,,亞微米對準(zhǔn)和分辨率。...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI 2000SM邊緣曝光系統(tǒng),OAI 2000AF曝光系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: OAI 2000SM邊緣曝光系統(tǒng),OAI 2000AF曝光系統(tǒng),OAI 2000型曝光系統(tǒng)可以配置為邊緣曝光系統(tǒng)(2000SM)或曝光系統(tǒng)(2000AF);這兩...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
OAI 800 MBA 型光學(xué)正面和背面光刻機系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: OAI800型光學(xué)正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機。它提供極其精確的(1碌m - 2 m碌)對準(zhǔn)精度,旨在大大*紅...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
Model 200 美國 OAI 光刻機 詳細(xì)摘要: 美國 OAI 光刻機 Model200 型桌面掩模對準(zhǔn)器系統(tǒng),*手工操作,輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-19 參考價: 面議 在線留言 -
大功率電子槍/電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB 詳細(xì)摘要: 日本JEOL大功率電子槍/電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB,是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源,能在不斷...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-16 參考價: 面議 在線留言 -
日本JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本JEOL JBX-9500FS 電子束光刻系統(tǒng),是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mm的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-16 參考價: 面議 在線留言 -
JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本JEOL JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng),在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計算值)2.1nm的電子束,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實際可達(dá)...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-16 參考價: 面議 在線留言 -
JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本JEOL JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng),是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-16 參考價: 面議 在線留言 -
JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng),用于制作45nm~32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 ...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-16 參考價: 面議 在線留言 -
JBX-8100FS日本電子JEOL 圓形電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本電子JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng), 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過的設(shè)計優(yōu)化,實現(xiàn)更簡便的操作,更快的刻寫速度,更...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
俄羅斯Optosystem準(zhǔn)分子激光器CL7000 詳細(xì)摘要: 俄羅斯Optosystem準(zhǔn)分子激光器CL7000,由于波長短(紫外),短脈沖寬度,高脈沖能量,是激光器家族不可替代的品種!應(yīng)用上,準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜(...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
M160科研級3D打印機 詳細(xì)摘要: nanoArch科研級3D打印機M160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
P140/S140 3D打印機 詳細(xì)摘要: nanoArch 3D打印機P140/S140 ,科研級3D打印系統(tǒng),擁有10m的超高打印精度和10m的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
P130/S130微納3D打印機 詳細(xì)摘要: nanoArch微納3D打印機 P130/S130 ,科研級3D打印系統(tǒng),擁有2m的超高打印精度和5m的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機 詳細(xì)摘要: 瑞士NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機,源于發(fā)明STM和AFM的IBM蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的研究成果。NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-14 參考價: 面議 在線留言 -
曝光燈HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,HBO 1000W/D,HBO 5000W/S 詳細(xì)摘要: 紫外光刻機用曝光燈HBO 200W/DC ,HBO 300W/S,HBO 1000W/D,HBO 5000W/S等型號,適用于蘇斯光刻機,以及ASML阿斯麥,N...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言